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搁滨贰反应离子刻蚀机

所属分类：等离子刻蚀机

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产物参数

CIF推出搁滨贰反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学，科研院所、微电子、半导体公司实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。

属性: 产物名称; 型号; 厂商性质; 访问量; 更新时间

详情: 搁滨贰反应离子刻蚀机; RIE200/plus; 生产厂家; 3185次; 2024-03-18

产物详情

CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体公司实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。

具体包括：

◆ 介电材料（SiO2、SiNx 等）

◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）

◆ III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）

◆ 溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）

◆ 类金刚石（DLC）

等离子刻蚀机原理

等离子蚀刻，也称为干法蚀刻，等离子刻蚀机是一种利用等离子体对半导体材料进行刻蚀加工的设备，是半导体制造过程中的设备之一。利用等离子体作为蚀刻介质，通过控制射频功率、气体流量、压力、蚀刻气体种类、处理时间、平台温度等工艺参数，选择性地移除沉积层特定部分的材料，将图案蚀刻到基材上的过程。

应用领域

主要用于微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等领域的器件研发和制造。